（I）光刻胶是大规模集成电路、印刷电路板和激光刻版技术中的关键材料．某一肉桂酸型光刻胶的主要成分A经光照固化转变为B．（1）A经光照固化转变为B，发生了反应（填反应类型）．（2）写出A与NaOH溶液反应的化学方程式．（II）A为某芳香烃的衍生物，只含C、H、O三种元素，环上有两个取代基．又已知A的相对分子质量为150，A不能使FeCl3溶液显色，但可被新制Cu（OH）2氧化为B，B在浓硫酸存在和加热时，发生分子内的酯化反应生成C；C分子中有一个含氧的六元环．（1）B分子中的含氧官能团为（填名称）；（2）写出符合上述条件的A的可能的结构式：；（3）写出任意一种A与新制Cu（OH）2反应的化学方程式：；（4）写出任意一种B生成的C化学方程式：．试题及答案-解答题-云返教育

试题详情

（I）光刻胶是大规模集成电路、印刷电路板和激光刻版技术中的关键材料．某一肉桂酸型光刻胶的主要成分A经光照固化转变为B．
（1）A经光照固化转变为B，发生了反应（填反应类型）．
（2）写出A与NaOH溶液反应的化学方程式　．
（II）A为某芳香烃的衍生物，只含C、H、O三种元素，环上有两个取代基．又已知A的相对分子质量为150，A不能使FeCl₃溶液显色，但可被新制Cu（OH）₂氧化为B，B在浓硫酸存在和加热时，发生分子内的酯化反应生成C；C分子中有一个含氧的六元环．
（1）B分子中的含氧官能团为（填名称）　；
（2）写出符合上述条件的A的可能的结构式：　；
（3）写出任意一种A与新制Cu（OH）₂反应的化学方程式：　；
（4）写出任意一种B生成的C化学方程式：　．

试题解答

见解析

Ⅰ（1）A转化为B的反应C=C断裂，转化为C-C，为加成反应；
（2）A含有酯基，在碱性条件下发生水解反应；
Ⅱ（1）A不能使FeCl₃溶液显色，说明苯环上不含羟基，但可被新制Cu（OH）₂氧化为B，说明A中含有醛基，B在浓硫酸存在和加热时，发生分子内的酯化反应生成C，说明B中含有羧基和羟基；
（2）A有一个羟基，没有酚羟基，有一个醛基，由于B能在浓硫酸存在下发生分子内的酯化反应生成含氧的六元环，说明A可能的结构简式为

（结合残基法、从A的相对分子质量150，可推出A含苯环）；
（3）A与新制Cu（OH）₂发生氧化还原反应生成羧基；
（4）B生成C的反应为酯化反应．

Ⅰ（1）A转化为B的反应C=C断裂转化为C-C，为加成反应，故答案为：加成反应；
（2）A含有酯基，在碱性条件下发生水解反应，反应的化学方程式为